南科態金材料結合成大推碳化矽新品 搶占半導體商機

新開發碳化矽晶圓。圖/態金材料科技提供
新開發碳化矽晶圓。圖/態金材料科技提供

南科態金材料科技研發成功應用碳化矽及氮化鋁(AlN)陶瓷基板專利技術,與成大半導體學院洽談合作政府計畫案,後天10日受邀在台北國際半導體展說明展示。態金材料科技研發長陳冠維指出,相關技術已成熟、月產30萬片以上碳化矽晶圓沒問題。

輝達新一代Rubin處理器傳出矽中介層材料將由矽轉換成碳化矽,激勵台灣半導體相關碳化矽產業鏈升溫。陳冠維指出,新進程已將碳化矽晶圓及氮化鋁陶瓷基板減薄至100微米以下,且可同時進行微鑽孔與微溝槽加工,解決傳統高成本、低產能問題,為國內SiC產業點燃了一線曙光。

陳冠維表示,全球功率半導體市場因價格產能出現前所未有激烈廝殺,各大廠都陷入生存轉型困境。傳統碳化矽切割技術,晶圓減薄及化學機械研磨耗時,態金將藉獨家開發的「雷射輔助微粒子珠擊」專利製程解決,與成大、合作廠商開發新設備。

目前碳化矽多只能製造6吋、8吋碳化矽晶圓,減薄至100微米以下須數10小時長時間處理,態金卻能在數分鐘內就減薄至100微米甚至更薄、同時進行微鑽孔與微溝槽加工,成為電動車、再生能源、伺服器與高速運算領域關鍵材料,這些優勢也將成為台灣廠商和中國競爭者差異化重點。

陳冠維說,相關技術突破不僅克服傳統雷射出現的裂紋、熱影響區、熔渣噴濺、塞孔等加工瓶頸,機械研磨或化學蝕刻高成本、低產能問題,更能減少次表層損傷,而且能應用至IC封裝製程中介層、再分佈層,甚至有取代ABF載板潛力,大幅提升高效能IC熱設計功耗與溫控能力,矽光子共封裝及高功率運算(HPC)晶片而言,是重大突破。

新開發碳化矽晶圓。圖/態金材料科技提供
新開發碳化矽晶圓。圖/態金材料科技提供
氮化鋁(AlN)陶瓷基板使用新技術減薄。圖/態金材料科技提供
氮化鋁(AlN)陶瓷基板使用新技術減薄。圖/態金材料科技提供

成大 矽晶圓 半導體

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